P-M是一款將真空式等離子體技術(shù)應(yīng)用于各種不同領(lǐng)域的研究性操作平臺，除了實現(xiàn)常規(guī)清潔樣品和表面改性的功能外，通過添加不同的功能模塊，可以實現(xiàn)等離子體鍍膜，等離子體合成反應(yīng)，等離子體純化等功能。極大的拓展該設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域。
一、產(chǎn)品原理
P-M是一種非破壞性的表面處理設(shè)備，它是利用能量轉(zhuǎn)換技術(shù)，在一定真空負(fù)壓的狀態(tài)下，以電能將氣體轉(zhuǎn)化為活性極高的氣體等離子體，該等離子體以一定能量作用于樣品表面，引起分子結(jié)構(gòu)改變和表面形貌的納米級變化，從而達(dá)到對樣品表面進(jìn)行改性和分解污染物的目的。
二、應(yīng)用范圍：
等離子表面處理技術(shù)應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、高分子、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。P-M小型等離子表面處理設(shè)備以體積小、成本低、操作簡便等特點(diǎn)廣泛應(yīng)用于科研及小批量生產(chǎn)場合。