看光刻膠光致抗蝕劑殘留物用熒光顯微鏡,光致抗蝕劑殘留物是指在后端線蝕刻中,未被完全去除或未被有效處理的抗蝕劑。這些殘留物可能對后續(xù)工藝產(chǎn)生不良影響,如腐蝕、沾污等。因而在工藝完成后,需要選擇性去除光刻膠并清潔表面,確保表面無殘留物和顆粒。光解型光刻膠是一種將化學(xué)熒光染料作為光敏劑的光刻膠,所以檢查光致抗蝕劑殘留物要用熒光顯微鏡。
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